
JUL 8, 2020
枚举作为一种计算策略,用于自动化设计CVD和ALD前驱体
演讲人:
Simon D. Elliott,Atomic Level Process 总监模拟
摘要:
基于化学的沉积和刻蚀工艺的成功,主要取决于气相前驱体(phase )的选择。就原子层沉积(ALD)和更广泛的化学气相沉积(CVD)而言,前驱体通常是金属有机配合物,其中配体围绕着金属中心。ALD/CVD前驱体中配体的选择,对吞吐量、化学计量比、杂质含量以及工艺温度至关重要。 异配体前驱体(含有多种配体)是平衡相互冲突的化学要求的一种折中方案。然而,迄今为止,我们对可能存在的异配体前驱体这一广阔领域化学空间 仅是“略知皮毛”。由于无法进行详尽的实验分析,我们借助计算方法筛选 将搜索范围缩小到最具前景的选项。 本文提出了一种针对筛选 金属前驱体的计算方法,用于评估其热稳定性。该计算策略以氮化锆的锆前驱体为例进行说明,氮化锆作为硬质涂层,用于在腐蚀性环境中保护工业部件。